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碳方程半导体申请一种微波等离子体化学气相沉积装置专利，能够依据客户要求快速定制所需尺寸的设备
本文源自:金融界金融界2024年12月11日消息，国家知识产权局信息显示，碳方程半导体设备制造（山西）有限公司申请一项名为“一种微波等离子体化学气相沉积装置”的专利，...
金融界网站 2024-12-11 21:00:13
盛美上海：等离子体增强原子层沉积炉管设备通过初步验证
盛美上海还宣布，其于2022年推出的Ultra Fn A热原子层沉积炉设备（Thermal ALD）也已成功通过另一家领先的中国大陆客户的工艺验证，性能参数比肩同类国际竞品，甚至更胜一筹...
格隆汇APP 2024-12-11 08:15:42
北京屹唐半导体申请等离子体产生及处理半导体工件专利，优化去灰均匀性
本公开的等离子体产生系统能够在不调整原有工艺条件和参数的情况下，通过导向装置的移动，调整处理腔室内的等离子体分布密度，从而优化去灰均匀性...
金融界网站 2024-12-10 16:55:23
厦门乾照光电申请一种LED芯片及其制作方法专利，避免制作透明导电层时等离子体轰击到第二型半导体层产生缺陷
电流阻挡保护层组，将第二型半导体层全部覆盖，避免制作透明导电层时等离子体轰击到第二型半导体层产生缺陷...
金融界网站 2024-12-10 10:56:13
芯恩集成电路取得支路进气结构及等离子体刻蚀设备专利，低成本提高晶圆边缘等离子体刻蚀均匀性
本文源自:金融界金融界2024年12月7日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司取得一项名为“支路进气结构及等离子体刻蚀设备”的专利，...
金融界网站 2024-12-07 18:35:12
苏州旌晖创半导体新材料取得一种等离子体射频线圈专利，可确保淬火均匀性
本文源自:金融界金融界2024年12月7日消息，国家知识产权局信息显示，苏州旌晖创半导体新材料有限公司取得一项名为“一种等离子体射频线圈”的专利，...
金融界网站 2024-12-07 18:35:12
等离子体成膜有限公司申请等离子体处理装置专利，提高等离子体处理效率
本文源自:金融界金融界2024年12月5日消息，国家知识产权局信息显示，等离子体成膜有限公司申请一项名为“等离子体处理装置”的专利，公开号CN 119069325 A，申请日期为2023年10月...
金融界网站 2024-12-05 13:35:11
东莞市晟鼎精密仪器取得等离子体电感耦合去胶装置专利，可提升去胶效果
金融界2024年12月4日消息，国家知识产权局信息显示，东莞市晟鼎精密仪器有限公司取得一项名为“种等离子体电感耦合去胶装置”的专利，授权公告号CN 222088519 U，申请日期为2023年12月...
金融界火线 2024-12-04 18:53:33
ASM IP 申请“反应器盖和使用其的原子层沉积设备”专利，将产生的等离子体和处理气体均匀地分散在晶片 的整个表面上
专利摘要显示，公开了一种反应盖和使用该反应盖的具有远程等离子体单元(RPU)的等离子体增强原子层沉积(PEALD)设备...
